有机物插层
本篇文章给大家分享有机物插层，以及有机物料的cn对应的知识点，希望对各位有所帮助。
简述信息一览：
熔融法制备高岭土-有机插层复合物
在两步插层法制备高岭土-有机插层复合物中，熔融法尽管插层不很均匀，对控温设备要求较高，但插层速度快，环境污染小，易于实现工业化生产。
高岭土-DMSO插层复合物（K-DMSO）的制备：称取12g高岭土悬浮于182mL的DMSO与18mL去离子水的混合溶液中，室温搅拌48h，抽滤，将所得到的复合物在60℃的烘箱中烘干48h，得到粉末状K-DMSO样品。
如聚丙烯酰胺的制备是以高岭土-二甲基亚砜或高岭土-甲酰胺为前驱物，置换取代插入丙烯酰胺，然后聚合形成高岭石-聚丙烯酰胺插层复合物。
高岭土-聚合物插层复合物材料的制备方法常用的有插层原位聚合和聚合物熔融插层2种方法。层间原位聚合形成的有机物插层比较均匀，但形成的聚合物聚合程度差别较大，种类有限，反应速率也较慢，而且需要大量溶剂。
高岭土-二甲基亚砜插层复合物（Kao-DMSO）的热稳定性好常用来作为制备其他材料的前驱体[4～11]，而且还用于高岭土的改性[12]、剥片[13]及制备纳米金属/高岭土复合物[14]等。
高岭土-有机插层复合物的制备方法
1、高岭石聚合物插层有机复合物的制备有2种方法：单体插层原位聚合和聚合物插层。无论是单体插层或是聚合物插层，目前都不能直接与高岭石作用插入其层间域，均需要以小分子的预插层体为前驱物。
2、高岭土-DMSO插层复合物（K-DMSO）的制备：称取12g高岭土悬浮于182mL的DMSO与18mL去离子水的混合溶液中，室温搅拌48h，抽滤，将所得到的复合物在60℃的烘箱中烘干48h，得到粉末状K-DMSO样品。
3、洗涤是制备插层复合物的关键步骤之一，洗涤的目的是为了除去高岭石表面吸附的多余的插层剂分子，其关键在于洗涤剂的选择。由于大多数有机插层复合物不稳定，洗涤剂选择不当，则不能除去多余的插层剂分子或使插层的分子脱嵌。
4、高岭土-聚合物插层复合物材料的制备方法常用的有插层原位聚合和聚合物熔融插层2种方法。层间原位聚合形成的有机物插层比较均匀，但形成的聚合物聚合程度差别较大，种类有限，反应速率也较慢，而且需要大量溶剂。
5、制备高岭土-二甲基亚砜插层复合物的工艺流程为：高岭土样品的预处理→配料混合→反应→过滤与洗涤→烘干→试验产品。 由于二甲基亚砜为液体，配料时将一定比例的高岭土直接用二甲基亚砜浸泡，搅拌均匀即可进行反应。
6、插层条件的选择［2］（1）插层时间的选择 图5-2为插层率随插层时间变化的曲线。选择不同的制备时间，按照实验方法制备高岭土-pNA插层复合物，用XRD法检测，根据衍射峰强度，计算出插层率（IR）。
插层原位聚合制备高岭土-聚合物插层复合物
以Kao-DMSO为预插层体制备的Kao-DMMA插层率为851%，加热聚合后制备的Kao-PMMA的插层率为80.96%，经水洗后插层率为80.65%（图4-22），没有发生脱嵌，也形成了高岭土-聚合物插层复合物。
可见熔融法的插层速率较快，反应12h插层率即趋向一稳定值80%左右；反应24h插层率达最大值；继续延长插层时间，插层率不是增高，反而有微弱程度的降低。
高岭石聚合物插层有机复合物的制备有2种方法：单体插层原位聚合和聚合物插层。无论是单体插层或是聚合物插层，目前都不能直接与高岭石作用插入其层间域，均需要以小分子的预插层体为前驱物。
高岭土-DMSO插层复合物（K-DMSO）的制备：称取12g高岭土悬浮于182mL的DMSO与18mL去离子水的混合溶液中，室温搅拌48h，抽滤，将所得到的复合物在60℃的烘箱中烘干48h，得到粉末状K-DMSO样品。
在两步插层法制备高岭土-有机插层复合物中，熔融法尽管插层不很均匀，对控温设备要求较高，但插层速度快，环境污染小，易于实现工业化生产。
高岭土-N-甲基甲酰胺插层复合物（Kao-NMF）是常用的制备其他高岭石有机插层材料的前驱体之一。到目前为止国内很少有人试制该种复合体。
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